感应耦合等离子刻蚀机

发布者:李向阳发布时间:2024-12-17浏览次数:14

感应耦合等离子刻蚀机

       刻蚀的材料主要有Si、SiNx、SiO2Ge、GeSi等;有机物、III-V族半导体(砷化镓、磷化铟等)、蓝宝石、SiC、金属(Au、Ag、W)等,射频电源上电极RF1000W,下电极 PF500W,主要用于微电子、光电子、通讯、微机械等领域的器件研发和制造